6th JSPS Silicon Symposium

ハワイ島、コナで開催された国際会議 第6回JSPSシリコンシンポジウム(The 6th International Symposium on Advanced Science and Technology of Silicon Materials) にて、志村准教授が新GOI構造作製技術とその電気特性評価に関する発表を行いました。

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