第19回ゲートスタック研究会

「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」第19回研究会(1月23日~25日、ニューウェルシティ湯河原)にて、田中君(B4)がHigh-k/Geゲートスタックについて、岡君(M1)がGeコンタクト形成技術について、梶村さん(M1)が液相成長GOI構造の光学特性評価について研究成果を発表しました。
3名ともよく頑張りました!

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