SNW 2012

ハワイ (Honolulu, HI) で開催された国際会議 VLSI シンポジウム (2012 Symposia on VLSI Technology and Circuits) のサテライトワークショップとして開催されたSNW (2012 IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop) にて、細井助教が高誘電率ゲート絶縁膜について研究成果を発表しました。

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