WATANABE LABORATORY

ハワイ (Honolulu, HI) で開催された国際会議 VLSI シンポジウム ( 2012 Symposia on VLSI Technology and Circuits ) のサテライトワークショップとして開催されたSNW ( 2012 IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop ) にて、細井助教が高誘電率ゲート絶縁膜について研究成果を発表しました。