ゲートスタック研究会

折角なので、ゲートスタック研究会での当研究室からの発表について簡単にご紹介します。

• 志村考功（准教授）：「 ゲルマニウム熱酸化膜中の残留秩序構造 」
• 鈴木雄一朗（M1）：「横方向液相エピタキシャル成長により作製した単結晶GOI構造の電気特性評価」
• 力石薫介（M1）：「TiN電極の減圧表面酸化処理によるpoly-Si/TiN/HfSiO/SiO2ゲートスタックの実効仕事関数制御」

以上3件プラス、お隣の研究室の有馬先生が共同研究の成果を発表されます。

• 有馬健太（准教授）：「 湿度制御雰囲気下でのin-situ XPSによるGeO2表面における吸着水形成過程の観測 」

学生には厳しい質問が飛ぶことを期待しています。