SISC2011

米国アーリントン(Arlington County,VA)で開催された国際会議 SISC2011(42nd IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference)において、細井助教がMetal/High-kゲートスタックについて口頭発表を、修士１年の鈴木さんがGOI構造作製技術についてポスター発表を行いました。
会議では当研究室で学位を取得の安藤さん(米国IBM T.J.ワトソン研究所)にお会いすることもできて、有意義な出張になりました。

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