第19回ゲートスタック研究会
「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」第19回研究会 （1月23日～25日、ニューウェルシティ湯河原）にて、田中君（B4）がHigh-k/Geゲートスタックについて、岡君（M1）がGeコンタクト形成技術について、梶村さん（M1）が液相成長GOI構造の光学特性評価について研究成果を発表しました。 ３名ともよく頑張りました！
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安藤様が研究室にいらっしゃいました
当研究室にて博士号を取得されて、現在はアメリカでご活躍の安藤さんが研究室を訪問してくださいました。 半導体メーカーのお話、キャリア形成について、現在のお仕事・研究内容、米国での普段の生活について等々、幅広く楽しくお話ししていただきました。 貴重なお話、質疑応答をありがとうございました。
新年のご挨拶
新年明けましておめでとうございます。 2014年が皆様にとりまして、素晴らしい一年となりますよう心よりお祈り申し上げます。 研究室一同、邁進して参りますので、本年もどうぞよろしくお願いいたします。ブログもまめに更新していけるよう頑張りますので、お楽しみに♪ 大阪城３Dマッピングスーパーイルミネーションにて撮影