6th JSPS Silicon Symposium

ハワイ島、コナで開催された国際会議 第6回JSPSシリコンシンポジウム(The 6th International Symposium on Advanced Science and Technology of Silicon Materials) にて、志村准教授が新GOI構造作製技術とその電気特性評価に関する発表を行いました。

このブログの人気の投稿

先進パワー半導体分科会 第12回 @富山

第73回応用物理学会春季学術講演会(3/15~18)