WATANABE LABORATORY

ハワイ (Honolulu, HI) で開催された国際会議 VLSI シンポジウム ( 2012 Symposia on VLSI Technology and Circuits ) のサテライトワークショップとして開催されたSNW ( 2012 IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop ) にて、細井助教が高誘電率ゲート絶縁膜について研究成果を発表しました。

早いもので今日から6月。一年の半分が過ぎようとしています。 さて、研究室に☆新☆メンバー（孕石晶子さん）を迎えました！孕石さんには清水さんと同様に技術スタッフとして研究をサポートしていただきます。韓国在住経験がおありなので、ドラマでよく使われる韓国語など教えてほしいと思ったりしています＾＾　よろしくお願いいたします！